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Fakultät Maschinenbau
PVD-Beschichtungsanlage

CemeCon CC800/9 Custom

PVD-Beschichtungsanlage CC800/9 der Firma CemeCon AG mit Nahaufnahme der Targets auf den Magnetron-Kathoden © LWT
PVD-Beschichtungsanlage CC800/9 Custom der Firma CemeCon AG mit Nahaufnahme der Targets auf den Magnetron-Kathoden

Die PVD-Beschichtungsanlage CC800/9 Custom der Firma CemeCon AG ist eine Magnetron-Kathodenzerstäubungsanlage im industriellen Maßstab für die Synthese von multi-funktionalen Dünnschichten. Die Anlage verfügt über insgesamt sechs Magnetron-Kathoden von denen vier wahlweise im dcMS- oder mfMS-Modus und zwei im dcMS- oder HiPIMS-Modus betrieben werden können. Zur zusätzlichen Erhöhung des Ionisationsgrads in dcMS- und mfMS-Verfahren können zwei Hohlkathoden, sogenannte Plasmabooster, zur Einleitung ionisierten Prozessgases in die Beschichtungskammer eingesetzt werden. Auf dem Substrattisch können sowohl eine dc-Biasspannung als auch eine gepulste Biasspannung mit mf- oder HiPIMS-Pulsmustern angelegt werden. Die unterschiedlichen Verfahrensvarianten erlauben die Schichtsynthese von metallischen und keramischen Dünnschichten sowie amorphen Kohlenstoffschichten.

Technische Daten

Kammermaße: 850 x 850 x 1.000 mm³
Nutzbarer Beschichtungsraum: Durchmesser: 400 mm
Höhe: 400 mm
Beladung des Substrattisches: max. 250 kg
Vakuumsystem: 2 Turbomolekularpumpen mit vorgeschalteter Drehschieberpumpe
Magnetron-Kathoden: 4 x dcMS/mfMS-Kathoden
2 x dcMS/HIPIMS-Kathoden
Targetmaße: 500 x 88 mm²
Plasmabooster: 2 x Stück montiert in Fronttür
Prozessgase: Argon (Ar), Krypton (Kr)
Reaktivgase: Stickstoff (N2), Acetylen (C2H2), Sauerstoff (O2)
Heizung: 2 x Seitenheizsysteme mit max. 8,8 kW
1 x Mittelheizung mit max. 15 kW
Prozesstemperaturen: max. 500 °C